商丘金常來金屬制品有限公司
經(jīng)營模式:生產(chǎn)加工
地址:河南省商丘市示范區(qū)中州辦事處105國道與310國道交叉口北1公里路東東廠房3號門
主營:金屬制品加工銷售
業(yè)務(wù)熱線:1593-9088815
QQ:1304173334
因此,如果要防止蒸發(fā)粒子的大量散射,在真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備中,真空鍍膜室的起始真空度必須高于10-2Pa。由于殘余氣體在蒸鍍過程中對膜層的影響很大,因此分析真空室內(nèi)殘余氣體的來源,借以消除殘余氣體對薄膜質(zhì)量的影響是重要的。真空室中殘余氣體分子的來源主要是真空鍍膜室內(nèi)表面上的解吸放氣、蒸發(fā)源釋放的氣體、抽氣系統(tǒng)的返流以及設(shè)備的漏氣等原因所造成的。若鍍膜設(shè)備的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及制造良好,則真空抽氣系統(tǒng)的返流及設(shè)備的漏氣并不會(huì)造成嚴(yán)重的影響。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制
因此需要合理設(shè)計(jì)鍍膜設(shè)備的抽氣系統(tǒng),保證膜材蒸汽分子到達(dá)基片表面的速率高于殘余氣體分子到達(dá)的速率,以減少殘余氣體分子對膜層的撞擊和污染,提高膜層的純度。此外,在10-4Pa時(shí)真空室內(nèi)殘余氣體的主要組分為水蒸氣(約占90%以上),水氣與金屬膜層或蒸發(fā)源均會(huì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成氧化物而釋放出氫氣。因此,為了減少殘余氣體中的水分,可以提高真空室內(nèi)的溫度,使水分解,也是提高膜層質(zhì)量的一種有效辦法。還應(yīng)注意蒸發(fā)源在高溫下的放氣。在蒸發(fā)源通電加熱之前,可先用擋板擋住基片,然后對膜材加熱去氣。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制
隨著高科技及新興工業(yè)發(fā)展,物理氣相沉積技術(shù)出現(xiàn)了不少新的先進(jìn)的亮點(diǎn),如多弧離子鍍與磁控濺射兼容技術(shù),大型矩形長弧靶和濺射靶,非平衡磁控濺射靶,孿生靶技術(shù),帶狀泡沫多弧沉積卷繞鍍層技術(shù),條狀纖維織物卷繞鍍層技術(shù)等,使用的鍍層成套設(shè)備,向計(jì)算機(jī)全自動(dòng),大型化工業(yè)規(guī)模方向發(fā)展。第二節(jié)真空蒸鍍(一)真空蒸鍍原理(1)真空蒸鍍是在真空條件下,將鍍料加熱并蒸發(fā),使大量的原子、分子氣化并離開液體鍍料或離開固體鍍料表面(升華)。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制
高經(jīng)理先生
手機(jī):15939088815