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要想鍍出堅固的鈦層，首先要有好的設(shè)備。因為在鍍膜過程中，真空系統(tǒng)必需要工作穩(wěn)定，爐體保壓要好，如果在鍍膜過程中有雜氣摻入，顏色就會不理想，嚴(yán)重的還會脫鈦。好的設(shè)備弧源離化率高，形成的離子密度大，大顆粒少，鍍出的膜層光滑度高，磨擦系數(shù)小，堅固不脫落，差的設(shè)備離化率低，鍍出來的膜層粗糙沒光澤，容易刮花脫落。

在高真空并且高溫的鍍鈦環(huán)境中，加入不同的氣體能鍍出不同的顏色。如加入N2，鍍出來的顏色是金色；加入C2H2，顏色就是黑色；加入O2，顏色就會是彩色和藍(lán)色；如加入N2和C2H2，顏色就會是玫瑰金色。在鍍鈦過程中，使用的物質(zhì)是鈦和高純氣體，都是綠色環(huán)保的材料，由于是在高溫真空環(huán)境中生產(chǎn)，不會產(chǎn)生任何有害物質(zhì)，所以鍍出來的產(chǎn)品是非常安全環(huán)保的，可以通過各種安全測試。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

真空鍍膜一種通過物理方法生產(chǎn)薄膜材料的技術(shù)。真空室中材料的原子與熱源隔離，并撞擊要鍍覆的物體表面。這項技術(shù)*首先用于生產(chǎn)光學(xué)透鏡，例如船用望遠(yuǎn)鏡透鏡。后來擴(kuò)展到其他功能膜，例如記錄鋁電鍍，裝飾涂層和材料表面改性。例如，表殼鍍有仿金，然后對機(jī)床進(jìn)行了涂層處理以改變加工硬度。真空鍍膜主要使用輝光放電在目標(biāo)表面擊中ya（Ar）離zi。靶的原子被噴射并沉積在基板表面上以形成薄膜。濺射膜的性質(zhì)和均勻性優(yōu)于蒸發(fā)膜，但是涂布速度比蒸發(fā)膜慢得多。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

硝材化學(xué)穩(wěn)定性差，基片在前加工過程中流轉(zhuǎn)過程中，表面已經(jīng)受到腐蝕，形成了腐蝕層或水解層（也許是局部的、極薄的）。膜層鍍在腐蝕層或水解層上其吸附就差，膜牢固度不良。

基片表面有臟污、油斑、灰點、口水點等，局部膜層附著不良，造成局部膜牢固度不良。

改善對策：

㈠加強(qiáng)去油去污處理，如果是超聲波清洗，應(yīng)重點考慮去油功能，并保證去油溶液的有效性；如若是手擦，可考慮先用碳酸鈣粉擦拭后再清擦。加強(qiáng)鍍前烘烤，條件許可，基片溫度能達(dá)到300℃以上更好，恒溫20分鐘以上，盡可能使基片表面的水qi、油汽揮發(fā)。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制