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基于氮化鈦優(yōu)良的導電性能，可做成各種電極以及點觸頭等材料。

（9）氮化鈦的超導臨界溫度較高，可作為優(yōu)良的超導材料。

（10）氮化鈦的熔點高于大多數(shù)過渡金屬氮化物，密度低于大多數(shù)金屬氮化物，從而成為一種獨特的耐火材料。

氮化鈦可以作為一種膜鍍在玻璃上，在紅外線反射率大于75%的情況下，當?shù)伇∧ず穸却笥?0nm時，能有效提高玻璃的保溫性能。另外，調(diào)整氮化鈦中氮元素的百分含量，可以改變氮化鈦薄膜的顏色，從而達到理想的美觀效果。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

鍍膜是用物理或化學的方法在材料表面鍍上一層透明的電解質(zhì)膜，或鍍一層金屬膜，目的是改變材料表面的反射和透射特性。在可見光和紅外線波段范圍內(nèi)，大多數(shù)金屬的反射率都可達到78%~98%，但不可高于98%。無論是對于CO2激光，采用銅、鉬、硅、鍺等來制作反射鏡，采用鍺、chen化jia、硒化鋅作為輸出窗口和透射光學元件材料，還是對于YAG激光采用普通光學玻璃作為反射鏡、輸出鏡和透射光學元件材料，都不能達到全反射鏡的99%以上要求。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

在信息存儲領(lǐng)域中薄膜材料作為信息記錄于存儲介質(zhì)，有其得天獨厚的優(yōu)勢：由于薄膜很薄，可以忽略渦流損耗；磁化反轉(zhuǎn)極為迅速；與膜面平行的雙穩(wěn)態(tài)狀態(tài)容易保持等。為了更精密地記錄與存儲信息，必然要采用鍍膜技術(shù)。13.在傳感器方面在傳感器中，多采用那些電氣性質(zhì)相對于物理量、化學量及其變化來說，極為敏感的半導體材料。此外，其中，大多數(shù)利用的是半導體的表面、界面的性質(zhì)，需要盡量增大其面積，且能工業(yè)化、低價格制作，因此，采用薄膜的情況很多。14.在集成電路制造中晶體管路中的保護層（SiO2、Si3N4）、電極管線（多晶硅、鋁、銅及其合金）等，多是采用CVD技術(shù)、PVCD技術(shù)、真空蒸發(fā)金屬技術(shù)、磁控濺射技術(shù)和射頻濺射技術(shù)。可見，氣相沉積是制備集成電路的核心技術(shù)之一。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制