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要想鍍出堅(jiān)固的鈦層，首先要有好的設(shè)備。因?yàn)樵阱兡み^程中，真空系統(tǒng)必需要工作穩(wěn)定，爐體保壓要好，如果在鍍膜過程中有雜氣摻入，顏色就會不理想，嚴(yán)重的還會脫鈦。好的設(shè)備弧源離化率高，形成的離子密度大，大顆粒少，鍍出的膜層光滑度高，磨擦系數(shù)小，堅(jiān)固不脫落，差的設(shè)備離化率低，鍍出來的膜層粗糙沒光澤，容易刮花脫落。

在高真空并且高溫的鍍鈦環(huán)境中，加入不同的氣體能鍍出不同的顏色。如加入N2，鍍出來的顏色是金色；加入C2H2，顏色就是黑色；加入O2，顏色就會是彩色和藍(lán)色；如加入N2和C2H2，顏色就會是玫瑰金色。在鍍鈦過程中，使用的物質(zhì)是鈦和高純氣體，都是綠色環(huán)保的材料，由于是在高溫真空環(huán)境中生產(chǎn)，不會產(chǎn)生任何有害物質(zhì)，所以鍍出來的產(chǎn)品是非常安全環(huán)保的，可以通過各種安全測試。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

真空鍍膜室壁上單分子層所吸附的分子數(shù)Ns與氣相中分子數(shù)N的比值近似值。通常在常用的高真空系統(tǒng)中，其內(nèi)表面上所吸附的單層分子數(shù)，遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過氣相中的分子數(shù)。因此，除了蒸發(fā)源在蒸鍍過程中所釋放的氣體外，在密封和抽氣系統(tǒng)性能均良好和清潔的真空系統(tǒng)中，若氣壓處于10-4Pa時(shí)，從真空室壁表面上解吸出來的氣體分子就是真空系統(tǒng)內(nèi)的主要?dú)怏w來源。真空下室壁單分子層所吸附的分子數(shù)與氣相分子數(shù)之比分子數(shù)與氣相分子數(shù)A-鍍膜室的內(nèi)表面積，cm2;V-鍍膜室的容積，cm3;ns-單分子層內(nèi)吸附分子數(shù)，個(gè)/cm2;n-氣相分子數(shù)，個(gè)/cm3 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

真空鍍膜對人的危害很小的。

2。電磁輻射很小。

3。真空泵排氣要直接到室外，做好空氣的排放環(huán)保。

4。鍍膜結(jié)束后，打開真空室時(shí)，可能會有大量灰塵，注意別吸到呼吸道中。

5。不要長時(shí)間觀察等離子體束，可能對yan睛有傷害。

6。如果需要加熱，注意別燙到。

7。注意工藝氣體不要xie露。

和其他行業(yè)相比，真空鍍膜屬于夠環(huán)保的了，危害很小。現(xiàn)在很多的塑膠電鍍都是用真空鍍膜來實(shí)現(xiàn)塑膠的金屬的質(zhì)感，在鍍之前要清潔好塑膠表面的灰塵和脫模劑，如果這些清潔不好，會導(dǎo)致鍍出來的產(chǎn)品會出現(xiàn)有點(diǎn)和有油窩的出現(xiàn) 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制