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氮化鈦具有熔點高，化學穩(wěn)定性好，硬度大，導電、導熱和光性能好等良好的理化性質(zhì)，使其在各個領域都有著非常重要的用途，尤其是在新型金屬陶瓷領域和代金裝飾領域方面。工業(yè)對氮化鈦粉末的需求越來越多，氮化鈦作為涂層價格既低廉又耐磨耐腐蝕，它的好多性能都優(yōu)于真空涂層。氮化鈦的應用前景非常廣闊。

其主要應用于以下幾個方面：

（1）氮化鈦生物兼容性高，可以應用于臨床醫(yī)學和口腔醫(yī)學方面。

（2）氮化鈦摩擦系數(shù)較低，可作為高溫潤滑劑。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

因此需要合理設計鍍膜設備的抽氣系統(tǒng)，保證膜材蒸汽分子到達基片表面的速率高于殘余氣體分子到達的速率，以減少殘余氣體分子對膜層的撞擊和污染，提高膜層的純度。此外，在10-4Pa時真空室內(nèi)殘余氣體的主要組分為水蒸氣(約占90%以上)，水氣與金屬膜層或蒸發(fā)源均會發(fā)生化學反應，生成氧化物而釋放出氫氣。因此，為了減少殘余氣體中的水分，可以提高真空室內(nèi)的溫度，使水分解，也是提高膜層質(zhì)量的一種有效辦法。還應注意蒸發(fā)源在高溫下的放氣。在蒸發(fā)源通電加熱之前，可先用擋板擋住基片，然后對膜材加熱去氣。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

外層膜表面硬度：減反膜一般外層選用MgF2，該膜層剖面是較松散的柱狀結(jié)構(gòu)，表面硬度不高，容易擦拭出道子。

改善對策：

㈠膜系設計允許時，外層加10nm左右的SiO2層，二氧化硅的表面光滑度優(yōu)于氟化鎂（但二氧化硅表面耐磨度、硬度不如氟化鎂）。鍍后離子轟擊幾分鐘，牢固度效果會更好。（但表面會變粗）

㈡鏡片出真空室后，放置在較干燥潔凈的地方，防治快速吸潮，表面硬度降低。其它造成膜強度不良的原因還有，真空度過低（在手動控制的機臺容易發(fā)生）、真空室臟、基片加熱不到位。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制