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氮化鈦的物理性質(zhì)：熔點(diǎn)2950.6～3205.8℃，線膨脹系數(shù)為5.712～7.053×106(1/K)(25℃)，密度為5.435～5.447g/cm3，熱導(dǎo)率為25.081(W·m-1·K-1)(300～2000℃)，莫氏硬度為8～9。一般情況下，氮化鈦粉末的顏色為黃褐色，顏色為黑色的是超細(xì)氮化鈦粉末，顏色為黃色的是氮化鈦晶體，大量聚集的氮化鈦晶體有金黃色金屬光澤。

氮化鈦的化學(xué)性質(zhì)：比較穩(wěn)定，與水和酸（鹽酸和硫酸）等均不發(fā)生反應(yīng)，但它能融入氫fu酸，若氫fu酸中含有氧化劑，則氮化鈦會(huì)完全溶解在氫fu酸中。氮化鈦溶解在強(qiáng)堿溶液中會(huì)分解并釋放出氨氣。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

蒸發(fā)鍍膜過程中，從膜材表面蒸發(fā)的粒子以一定的速度在空間沿直線運(yùn)動(dòng)，直到與其他粒子碰撞為止。在真空室內(nèi)，當(dāng)氣相中的粒子濃度和殘余氣體的壓力足夠低時(shí)，這些粒子從蒸發(fā)源到基片之間可以保持直線飛行，否則，就會(huì)產(chǎn)生碰撞而改變運(yùn)動(dòng)方向。為此，增加殘余氣體的平均自由程，以減少其與蒸發(fā)粒子的碰撞幾率，把真空室內(nèi)抽成高真空是必要的。當(dāng)真空容器內(nèi)蒸發(fā)粒子的平均自由程大于蒸發(fā)源與基片的距離(以下稱蒸距)時(shí)，就會(huì)獲得充分的真空條件。設(shè)蒸距(蒸發(fā)源與基片的距離)為L(zhǎng)，并把L看成是蒸發(fā)粒子已知的實(shí)際行程，λ為氣體分子的平均自由程，設(shè)從蒸發(fā)源蒸發(fā)出來的蒸汽分子數(shù)為N0，在相距為L(zhǎng)的蒸發(fā)源與基片之間發(fā)生碰撞而散射的蒸汽分子數(shù)為N1，而且假設(shè)蒸發(fā)粒子主要與殘余氣體的原子或分子碰撞而散射，則有N1/N0=1-exp(L/λ)(1) 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

有70多種元素、50多種無機(jī)化合物材料和多種合金材料可供選擇。濺射鍍sputteringdepsitsnn用荷能粒子(通常為氣體止離子)轟擊靶材，使靶材表面部分原子逸出的現(xiàn)象r.若把零件放在靶材附近酌適當(dāng)位置上，則從靶材飛出的原子便會(huì)沉積到零件表面而形成鍍層。它特另}l適用于高熔點(diǎn)金屬、合金、半導(dǎo)體和各類化合物的鍍覆二主要用于制備電子元件上所需的各種鍍層。也可用來鍍覆氮化欽仿金鍍層和在切削刀具上鍍覆氮化欽、碳化欽等硬質(zhì)鍍層，以提高其使用壽命和切削功能。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制